晶圓廠含氟廢水加藥模式之探討 | 合法藥品大搜索

由謝政宏著作·2006·被引用1次—半導體廠需使用大量氫氟酸來清洗晶圓，而除了氫氟酸外也常常混.有磷酸或硫酸等混酸在其中；含氟廢水之處理主要添加氯化鈣形成氟.化鈣的沈澱，但是當含氟廢水含有 ...

[N9`����-�*���r� �fZH�W6ǕWS9(�A��@���L��U��K��:j��S/�����d���x-q�ݔA3���j�]3�j��τ��i��0ɀia5BG{���z����A8=�%���tuU�7���*�1�"-8Q�c�D�g%�n͝�i�+4���`��ݙ�?�j����`> /XObject > >> /Contents 32 0 R >> endobj 37 0 obj > stream H��[o5���S�����:�. �٦@i�҅YHӐ� �U*Q*�ԯ�g)Ŝ�-B޾���p&�cMύ+ ��&�《�S�5aC;;C����V�ԿZH���2 �~ۺg�iݖ�1�#Ä�N�fѱDz�r��Ak{#`QNc)�a��1�~��7�,c�k�X��8���rq,K���Z6if����ұEM���נ+�;k޲y`��Ԗ�w��Eêa��h7����y�i���ґƠ�����θCdlΖ�����Cѭyc��|ǘl�d�,#��&��mF0�r�����*�(]Ai�#yQ���5f���EF��Pm���3t1%P�Ƀ���;�tܮ_��y�rfU�НOx��5Ѽ���~ZIu�`��7)�lW�h6k�-�����[�U$�s{�>Ũ�*�3��UP��"���#?�Bet ,����[�6����K`��{1_�|�89+ڨ)�{NX��-B�ݠΉ���Q�0��C�2QW%�v�I��N4�&�� �l�وM ���/�kpw������}r�Y�O{�r�LS�u�$�q6���И*�,ԷR���u���W���_o@���?��8�˚@�.K���n�*�H-Y�C�G�H��� ���Ej��1n�ۣr�-/��x����#�&�3N#e# ���6X!!��W��]�k-�� ����s�����vE0�Kf�V��Nv�/V�]b��AAˏO����vx�:J0��i��)�7�l��!a�H��d wuz�����wAku�WN�]�5խz A �"�N/������)ee1�T�...